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离子镀膜机常见的离子镀类型及特点

    真空离子镀膜机是真空镀膜设备的一种,它指的是一类需要在一定真空环境下进行的镀膜。离子镀膜机的原理和真空镀膜机的类似,这里就不多加赘述了。今天,给大家简单介绍下离子镀膜机较常使用的离子镀的类型及特点。
    1、电阻加热或电子束加热蒸发源
    ①直流放电二极型
    特点:绕射性好,附着性好,基板温度易上升,膜结构及形貌差,若用电子束加热必须用差压板。
    ②多阴极型
    特点:采用低能电子离化效率高,膜层质量可控制。
    ③射频放电离子镀
    特点:不纯气体少,成膜好,化合物成膜更好。匹配较困难。
    2、电子束加热蒸发源
    ①活性反应蒸镀
    特点:蒸镀效率高,能获得三氧化二铝、TiN等薄膜。
    ②增强的ARE型
    特点:易离化,基板所需功率和放电功率能独立调节,膜层质量、厚度都容易控制。
    ③低压等离子镀
    特点:结构简单能获得TiC、TiN等化合物镀层。
    ④电场蒸发
    特点:带电场的真空蒸镀,镀层质量好。
    3、等离子电子束
    空心阴极放电离子镀
    特点:离比效率高,电子束斑较大,金属膜、介质膜、化合物膜都能镀。
    CCZK-ION多弧离子真空镀膜机

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