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真空镀膜技术是一项极具潜力的技术

      真空镀膜技术是一种由物理方法产生薄膜材料的技术,整个镀膜过程是在真空镀膜机的真空室内完成,在真空室内材料的原理从加热源离析出来打倒被镀物理的表面,此项技术最初是应用于生产光学镜片,如航海中望远镜镜片等,之后延伸到其他的功能镀膜,如手表外壳镀仿金色,机械刀具镀膜等等。
      在真空中制备膜层,包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段,但一般来说真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。真空镀膜的定义指在真空环境下,将某种金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面,属于物理气相沉积工艺。因为镀层常为金属薄膜,故真空镀膜也称真空金属化。真空镀膜的功能是多方面的,这也决定了其是一项极具潜力的技术。总体来说,真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果,在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能,提供优异的电磁屏蔽和导电效果。

 

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