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多弧离子镀膜机的工艺要求

    多弧离子镀膜机主要是通过用多个金属蒸发源来作为其阴极,并且通过和阳极之间产生弧光放电,这时靶材蒸发粒子在离化之后与进到工作室内的气体发生反应,从而使生产的化合物沉淀在被镀膜基材的表面上形成膜。在镀膜的过程中,真空压强、弧源偏压和电流、通入的气体的流量以及真空的温度等都要求非常精准的设定和控制,其整个工艺的流程主要由予抽真空、真空工作、轰击和溅射、镀膜以及出炉等几大部分所构成,具体的流程如下所述:
    开始-检查仪器仪表-扩散泵预热-装零件,关炉门-抽真空到设定压力P1-充入气体到设定压力P2-工件转动,根据设定轰击方式及次数完成轰击-设定湿度,镀膜偏压-镀膜压力到设定值P3-根据设定流量放入气体B-逐级加偏压镀膜一定时间-出炉。

多弧离子镀膜机针对物件表面处理

CCZK-ION多弧离子真空镀膜机

CCZK-ION多弧离子真空镀膜机


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