随着科技的发展，使用磁控溅射镀膜设备对颗粒状物体镀膜已经不再是一件难事。特别是在颗粒状金属物体表面使用镀膜技术已经相当成熟。这是应为颗粒物体表面积能都比较大，其之间能够容易进行团聚，曲率半径却是小的，因此在颗粒状物体表面上使用磁控虽然可行，但是其难度系数也是非常大的。
CCZK-SF磁控溅射镀膜设备
国外在颗粒表面使用镀膜技术基本上是采用无极化学镀，这种技术相对来讲是比较成熟的，但是所镀出来的膜质量较差，差在哪里呢？其薄膜福海均匀性达不到要求，且表面居多裂痕，附着力比较差，且镀液对环境造成的影响是非常的大的。
而我国采用的微颗粒磁控溅射镀膜设备。主要由真空室、阴极靶、样品架、样品皿、加热器、真空抽气装置、氩气通气口、放气阀、密封圈、振动发生器等组成. 本设备是在普通直流磁控溅射镀膜设备的基础上，增加了一个超声波振动发生器，溅射镀膜时，通过调节样品架的摆动频率和超声波的振动功率，使每个微颗粒都能维持一个良好的分散状态和较好的流动性，使每个微颗粒都有机会充分地暴露其表面，并通过调节真空室内的工作气压、溅射功率、温度和溅射时间等工艺条件，就可以在微颗粒表面沉积上金属薄膜。
使用这种设备对微颗粒进行磁控溅射镀膜的好处就是能够使得每个微颗粒的表面都能够等概率的暴露。从而使得每个表面都能够堵上均匀，致密，附着力好，无裂痕的薄膜。
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