中文版英文版
免费电话:400-882-5225
新闻中心
当前位置:首页> 新闻中心>磁控溅射镀膜设备各种镀膜方式比较

磁控溅射镀膜设备各种镀膜方式比较

    磁控溅射镀膜设备各种镀膜方式比较

    磁控溅射镀膜时一种使用物理气象沉积的一种设备,其不同的溅射方式有着不同的区别。

磁控溅射镀膜设备原理

    磁控溅射镀膜设备溅射分析表:

种 类

典型工艺参数

二极溅射

dc:1~7kv;0.15~1.5ma/cm2;rf:0.31~10kv;1~10w/cm2,真空镀1~10pa

三极或四极溅射

dc:0~2kv;rf:0~1kv;真空镀6×10-2~1×10-1pa

磁控溅射

dc:0.2~1kv;3~30w/cm2;真空镀:10-2~10-3pa

射频溅射

rf:0.3~10kv;0~12kv;频率:13.56mhz;真空镀1~10-1pa

离子束溅射

采用直流,真空镀:10-3pa


上一篇:如何使用镀钛设备镀出坚固的钛层 下一篇:磁控溅射镀膜设备使用所需要注意的问题





电话:0577-56615101
手机:18668736182
浙江温州市龙湾区空港新区兴腾路4号
查看百度地图
001@ccvacuum.com
Skype:ccvacuum
Copyright © 温州驰诚真空机械有限公司 ALL Rights Reserveds 技术支持:温州中网 备案号:浙ICP备14041599号 浙公网安备 33030302000888号      网站地图 | 联系我们
返回
上页